EDI超纯水设备
二、EDI进水条件：
水源:反渗透RD产水，电导率≤20μ.s/cm
PH值5℃-38℃
进水压力0.2-0.6mpa
硬度:小于0.5ppm
三、应用场合：
1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路
2、超纯材料和超纯化学试剂光导纤维、光盘
3、汽车、家电表面电泳漆清洗用水
4、精密产品实验室和中试车间
四、水质标准：
1、根据客户要求可达到以下标准:
2、符合美国ASTM标准，电子部超纯水水质标准（18MQ-CM, 15MQ.CM, 2MQ-CM和0. 5MQ-CM，四级)
五、工艺流程：
预处理一一双级反渗透一一EDI一一抛光一一终端后处理
