表面活性剂废水的化学处理法的现状与问题
表面活性剂废水的混凝处理法混凝法
处理LAS废水效果理想、成本低、易操作,但降解不彻底,产生大量废渣与污泥。目前的研究集中在与其他技术的联合使用和开发出针对阴离子表面活性剂的高效的混凝剂。已报道的有用聚合硫酸铁作混凝剂,处理低、高浓度的LAS废水,出水均可达到国家排放标准(对于高浓度的 LAS废水需后续的中和泡沫分离处理)。组合工艺有微电解-混凝沉淀法,混凝沉淀-水解酸化-接触氧化法等。
表面活性剂废水的吸附处理法
常用的吸附剂主要包括活性炭、吸附树脂、硅藻土、高岭土等。活性炭在常温下对LAS废水处理效果较好,对LAS的吸附容量可达到55·8mg/g。但再生能耗大,且再生后无法完全恢复吸附能力, 因而限制了其应用。天然的粘土矿物类吸附剂货源充足、价廉,应用较多。为了提高吸附容量和吸附速率,对这类吸附剂研究的重点在于吸附性能、加工条件的改善和表面改性等方面。用硼泥处理表面活性剂废水, LAS的去除率达94%左右,硼泥再生后对LAS去除率仍可达94%。吸附树脂处理表面活性剂废水,其吸附速率快、稳定性好、再生容易,但是预处理较繁琐,一次性投资大。未来应重点开发价廉的吸附材料,如对工业废物再利用。以CaO为改性剂的粉煤灰作为吸附剂,对表面活性剂的去除率可达95%以上。
表面活性剂废水的催化氧化处理法
催化氧化法是对化学氧化法的改进与强化,主要有均相氧化法,光催化氧化法和多相氧化法。 Fenton法属均相氧化法,目前研究的热点是将Fen- ton法与其他技术联合使用,例如混凝-Fenton工艺,超声-Fenton试剂联合法。后者在最佳条件下对LAS的去除率可达80%。光催化氧化法是用紫外光照射半导体催化剂,生成强氧化性的·OH 自由基来氧化分解LAS,对LAS的去除率可达 90%以上。该法在处理高浓度LAS模拟废水存在一个H2O2的最佳投量(0·8 mg/L),过多的 H2O2投量会对LAS的降解有不利影响。目前对催化氧化法的研究热点是: (1)发展该法与其他技术的联用,如将Fenton氧化与光催化氧化结合的TiO2-Fenton试剂光氧化法; (2)开发价格低廉性能优越的催化剂。目前已开发出CuO/Ni2O3、 ZnO/Ni2O3、TiO2/活性炭等混合催化剂,对LAS 的去除率可分别达到99·5%、93·8%和80%。多相催化氧化法处理LAS废水去除率最高可达 88·3%。其中光催化氧化法和多相催化氧化法都可以彻底地将LAS分解为CO2、H2O和SO2-4。
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